真空鍍膜隨著PVD鍍膜技術(shù)應(yīng)用的迅速推廣，吸引了國(guó)內(nèi)外專家們和相關(guān)企業(yè)積極研發(fā)，至今無(wú)論是PVD沉積技術(shù)、PVD的制備工藝，還是PVD設(shè)備配套裝備與部件，都有了長(zhǎng)足的進(jìn)步。

       1.冷陰極電弧 陰極電弧技術(shù)是在真空條件下，通過(guò)低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態(tài)，從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發(fā)源有新的發(fā)展，主要是通過(guò)有效強(qiáng)制冷卻和電磁場(chǎng)獨(dú)特的設(shè)計(jì)，在兩者共同作用下，使靶材的離化率更高，薄膜性能更加優(yōu)異。

       2.磁過(guò)濾陰極弧 配以高效的電磁過(guò)濾系統(tǒng)，將電弧產(chǎn)生的等離子體中的中性宏觀粒子、分子團(tuán)等大顆粒過(guò)濾干凈，經(jīng)磁過(guò)濾后沉積粒子的離化率達(dá)100%，因此制備的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蝕性能好，與基體的結(jié)合力更強(qiáng)。

      3.柱狀或平面狀大面積電弧源 保證高離化率的同時(shí)，減少大顆粒沉積的比例，達(dá)到既有好的附著力，又有較好的表面光潔度效果。

      4.中頻磁控濺射 增加離化率，減少電荷積累引起的異常放電，預(yù)防靶表面中毒現(xiàn)象，沉積工藝更穩(wěn)定。

      5.全封閉非平衡磁控濺射 通過(guò)全封閉非平衡電磁場(chǎng)的作用，極大地提高真空室內(nèi)的離化率以及沉積速率，增強(qiáng)膜基結(jié)合力和薄膜沉積的均勻性。

      6.脈沖高能窄峰直流濺射 提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%)，接近電弧的離化率。通過(guò)電磁場(chǎng)的作用可以大大增加沉積離子的能量，從而改善膜層的結(jié)合力和致密性。

      7.陽(yáng)極層離子源輔助沉積 提高轟擊清洗的質(zhì)量，特別是可以實(shí)現(xiàn)對(duì)非導(dǎo)體的鍍前清洗，鍍膜時(shí)輔助沉積，提高沉積粒子的能量，改善膜層的結(jié)合力。

      8.納米復(fù)合多層膜 納米沉積技術(shù)，是涂層結(jié)構(gòu)未來(lái)的發(fā)展方向，通過(guò)納米級(jí)厚度的不同成份沉積層復(fù)合結(jié)構(gòu)膜，實(shí)現(xiàn)涂層性能的極大增強(qiáng)。

      9.裝飾性雙色間鍍 單一的顏色PVD涂層已滿足不了市場(chǎng)的需求，進(jìn)而提出雙色間鍍的要求，這是裝飾涂層的發(fā)展方向，雙色間鍍的質(zhì)量成為代表PVD加工企業(yè)的生產(chǎn)技術(shù)水平標(biāo)志。

      10.高能脈沖疊加直流偏壓 減少工件的打火，增加沉積離子能量，增強(qiáng)膜基結(jié)合力，提高沉積速率。

      11.超低溫捕集泵 通過(guò)低溫冷凝效應(yīng)，迅速捕集真空系統(tǒng)內(nèi)的殘余氣體，特別是水蒸汽，大大縮短抽真空的時(shí)間，獲得潔凈的真空環(huán)境。

      12.分子泵及深冷泵 綠色環(huán)保，大大降低能耗，真空系統(tǒng)抽速穩(wěn)定，鍍膜工藝穩(wěn)定可靠，重現(xiàn)性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體，保證真空系統(tǒng)的潔凈度。