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真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

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為什么PVD鍍膜要在真空環(huán)境下進行

時間:2022-04-09    點擊數(shù):

 PVD的全稱是Physical Vapor Deposition,即物理氣相沉積。是一種物理狀態(tài)下的物質(zhì)轉(zhuǎn)移過程,可以將原子或分子狀態(tài)下的物質(zhì)從一個物體轉(zhuǎn)移到另一個物體上,從而使其具有更加優(yōu)異的性能。

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  PVD鍍膜可以在真空環(huán)境下進行,這項技術(shù)稱為PVD真空鍍膜。金屬在真空環(huán)境下與各種氣體產(chǎn)生綜合作用形成等離子體,經(jīng)過加速后,等離子體涌向被鍍工件表面,形成牢固的膜層。這層膜細密均勻,結(jié)合力強,硬度高,防腐耐磨,具有良好的導(dǎo)電性和自潤滑性能,同時色澤豐富多樣。

  而且,由于PVD真空鍍膜是在真空環(huán)境下進行,而真空中的大物分物質(zhì)已被排出,所以鍍膜的過程受到外界干擾的影響就很小,顏色就不會雜亂,也沒有膜層脫落的后顧之憂。

  PVD真空鍍膜能為您帶來多姿的色彩,讓您在這大千世界里盡情展現(xiàn)特別風格


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