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18913268389湯生
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眾所周知,鍍膜的工藝有很多種類,有常見的電鍍法、氧化法,還有氣相生成法、離子注入法、擴(kuò)散法、涂布法、液相生成法等。
其中氣相生成法又可分為物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法。
PVD工藝就是物理氣相沉積法,由于這種工藝都是在真空環(huán)境下進(jìn)行的,因此也稱為這空離子鍍膜技術(shù)。
PVD鍍膜技術(shù),是指在真空環(huán)境下,采用低電壓,大電流的電弧放電技術(shù)轟擊靶材,利用氣體放電,使靶材蒸發(fā),蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離子作用,利用電場加速,使被蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)生的物質(zhì)沉積在工件上面。
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